機構(gòu)：臺積電、英特爾、三星電子2nm代工節(jié)點良率分別約為65%、55%、40%
2025-07-15
來源：愛集微
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近日，分析機構(gòu)KeyBanc Capital Markets分析師John Vinh在一份報告中的分析顯示，臺積電、英特爾、三星電子的2nm代工節(jié)點良率分別約為65%、55%、40%。
John Vinh表示，Intel 18A的良率已相較上一季度的50%提升5%，有助于英特爾實現(xiàn)在今年內(nèi)推出Panther Lake處理器的目標。英特爾代工有望以65%至75%的良率進入量產(chǎn)，領先于三星。屆時，臺積電的良率約為75%。
此外，John Vinh透露，英特爾將推出面向客戶的18A-P，預計于2026年下半年進入量產(chǎn)。如果18A-P的良率表現(xiàn)能夠維持水平，英特爾在2026年的業(yè)績可能會大幅超出市場預期。
雖然有消息稱，英特爾可能跳過18A-P代工服務直接轉(zhuǎn)向14A，但John Vinh認為這種情況不太可能發(fā)生，因為18A-P似乎與臺積電的N2工藝具有相當?shù)母偁幜Α６?4A預計要到2027年末或2028年初才能投入量產(chǎn)。
相比之下，目前三星的SF2工藝良率仍然只有40%，而臺積電的N2工藝則高達65%。
