- EUV光刻機,ASML技術(shù)占20%,另外80%是美、德、日、英提供
- 值得我們學(xué)習(xí):韓國努力了3年,對日本光刻膠的依賴降至50%
- 與ASML相比,國產(chǎn)光刻機,究竟達(dá)到了什么水平?
- 繞過光刻機制造芯片?華為被制裁3年后,中國終于使出撒手锏
- 事關(guān)400臺光刻機,在美企紛紛變臉后,ASML可能也要翻臉了
- ASML CEO:中國不太可能獨立造出頂尖光刻機,但也不是絕對
- 光刻技術(shù)最佳替代者來了?芯片堆疊技術(shù)發(fā)揮“長處”
- 國產(chǎn)光刻膠自給率現(xiàn)狀:EUV為0%,ArF為1%,KrF為5%
- 國產(chǎn)90nm光刻機,到底能生產(chǎn)多少納米的芯片?最高55nm
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