眾所周知，在芯片制造中，光刻機是必不可少的設備。

而7nm及以下的芯片芯片制造，EUV光刻機是必不可少的設備，而EUV光刻機僅ASML一家能夠生產，所以一直以來ASML都是保持著自己的節奏，不多生產。

這樣EUV光刻機就是賣方市場，ASML說了算，三星、臺積電、intel等廠商，要從ASML這里搶，才能夠買到，價格還高高在上。

2021年，ASML的EUV光刻機一共只賣出了42臺，實際上市場上的需求達到了60多臺，但ASML就是不生產這么多出來。

為此，其它廠商也在不斷的努力，想換道超車，通過其它技術，來替代EUV光刻機。目前已經有三種方案，在有進，分別是：1、納米壓印光刻（NIL）；2、直接自組裝（DSA）光刻；3、電子束光刻（EBL）。

其中美國企業已經推出了EBL電子束光刻機，能夠用于生產0.768nm的芯片；而佳能則押寶NIL光刻機，并與鎧俠合作，計劃用于3D NAND閃存生產中；而DSA光刻機，各大巨頭也是在關注。

像intel、臺積電、三星等巨頭，則是三大光刻技術，都在押注，以免萬一某一種技術突然崛起，把自己搞得措手不及。

這讓ASML壓力山大，那么怎么辦呢？當然是想辦法討好客戶，讓客戶的需求得到滿足，這要客戶就不會跑掉了。

于是近日ASML公布了自己的一個計劃，那就是推動產能增長，多產生光刻機出來，讓客戶都能買到，這樣就不會想著其它技術了。

ASML表示，他們計劃將產能增加到 90 個 EUV 和 600 個 DUV 系統（2025-2026 年），同時還將 High-NA EUV 產能增加到 20 個系統（2027-2028 年）。

與2021年42套EUV系統銷量相比，相當于EUV光刻機產能直接增加210%+了，這應該是ASML拿出來的最大誠意了。

當然，ASML肯定不會承認是怕別的技術或廠商搶了市場，只說自己是看到市場需求過大，供不應求，所以才擴產的。

但事實是，當一個市場，只有一家企業能提供產品時，這個市場就是被壟斷著的，所以ASML就算再增加產能，也一定會有其它廠商有其它想法。

所以EUV光刻機的替代方案，一定會出來的，只是時間問題，就算ASML產能再高，也一樣阻止不了，你覺得呢？