ASML在半導體領域的地位不用多說，它家的光刻機占了全球70%+的份額，而EUV光刻機的份額更是高達100%，至今沒有第二家廠商能夠生產出EUV光刻機。

所以目前任何需要大規模制造7nm及以下制程的晶圓廠，都得求ASML，因為一旦沒有EUV光刻機，7nm及以下的芯片就制造不出來。

過去的這許多年，有眾多的企業都想替代ASML，比如尼康、佳能，甚至還有上海微電子，大家都在光刻機上發力，想推出EUV光刻機，甚至換一個方向，用另外的技術來實現EUV光刻機的功能，但暫時都沒有成功。

那么問題來了，為何ASML在半導體領域無法被替代？其實原因很簡單，ASML并不是一家企業在戰斗，甚至也不是一個國家在戰斗，ASML是整合了全球的先進工藝，將美、歐、日、韓、臺綁在一架戰車上，大家一起戰斗，攢局無敵。

如上圖所示，這是ASML光刻機產業鏈中的主要核心部分，分國上、中、下游三個部分。

上游是光刻機的核心元件提供商，其中光源是來自于美國的，物鏡組、光學組件、精密加工是來源于德國的，零部件來源于日本，而浸沒雙工作臺來源于荷蘭、中國臺灣。

ASML主要處于中游，就是將上游的這些核心廠商、核心元件聚攏，然后自己再組裝成一臺光刻機。

而下游則是臺積電、三星、英特爾這三家，這三家為了支持ASML，曾入股ASML，成為ASML的股東，形成了利益共同利。

所以很明顯，ASML是將全球最頂尖的企業，都拉到了自己的陣營中，其它光刻機企業，要想制造出EUV光刻機，一是從ASML這撬墻角，將核心供應商撬走，但這太困難了。

二是找到能夠一批上、下游都能夠替代的廠商，這就更加困難了，所以其它的光刻機企業，在EUV這個賽道上，是不太可能與ASML競爭的，除非換賽道，以另外一種技術試。

目前佳能是押寶納米壓印光刻（NIL）技術，而美國有企業在在搞電子束光刻機(EBL)，還有企業在研究直接自組裝（DSA）光刻，X-射線光刻等，都是繞開EUV技術。

這其實已經能夠很好的說明問題，大家都認為走同樣的EUV路線，大家拼不過ASML這一個陣營，只有換線路，才有希望，這也是ASML真正無法被替代的原因。