大家都知道光刻機是芯片制造過程中，最重要的設備之一。但大家不清楚的是，光刻機也分前道光刻機，后道光刻機兩種。

前道光刻機，主要是指將芯片電路圖，光刻到硅晶圓上的光刻機，也就是芯片制造的前道工序號需要的光刻機，也稱之為前道光刻機，其中又分EUV光刻機、DUV光刻機，UV（i-line）光刻機。

而后道光刻機，同是用于芯片制造的后道工序，比如芯片封裝等，另外還有光刻膠制造也需要后道光刻機等。

相對而言，前道光刻機更難，更為重要。同時對精度要求也越高，所以前道光刻機又分EUV、DUV、UV光刻機。而DUV光刻機按照精度，又分為ArFi光刻機，用于45-7nm；ArF Dry用于65nm，KrF用于180nm等等。

目前全球能夠制造光刻機的廠商，真不多，可能也就4家，分別是ASML、日本佳能、日本尼康，還有上海微電子。

那么這4家各自在市場表現如何？近日，有機構統計了2021年全球前道光刻機的銷售情況，一共是478臺（注：數據真假未知，但以機構的知名數，估計不會有假）。

如上圖所示，去年全球一共售出478臺前道光刻機，其中ASML拿下309臺，占比為65%，日本廠商拿下169臺，占比為35%。而中國廠商的份額為0。

再看看5種分類，可以看到EUV光刻機是ASML獨占100%，而DUV中，精度更高的ArFi、ArF Dry均是ASML說了算，占比分別96%、88%。

日本廠商則在低端的KrF、UV(i-line）上有一定優勢，特別是最低端的UV光刻機上，占了大頭。

可見，整個前道光刻機市場，還是ASML說了算，日本廠商，拿走的是ASML看不上的低端市場，而國產連低端市場都搶不到。

為何國產光刻機，出貨量為0？首先是上海微電子目前最先進的僅為90nm，也就是KrF、UV階段，處于低端，這里競爭大，有4家廠商在競爭，ASML、佳能、尼康都有。

而更重要的是，芯片的前道工序非常重要，并且是幾百種設備相互配合，而這些生產設備以國外的產品為主，所以國外的光刻機能夠相互配合兼容，這是大家多年來合作的結果。

而國產光刻機的也許能用，精度也達到了，但晶圓廠們一般情況下可不會冒險，在有國外的、能兼容匹配的國外設備可買的情況下，就不會買國產的，一旦出了問題，就損失慘重。

可見，國產光刻機，不僅要解決本身的產品性能問題，還要想辦法融入整個供應鏈中，才能夠真正崛起。