最新消息，ASMLQ4 預測凈銷售額64億歐元，毛利率49%，相比三季度，毛利率略有下滑。

CINNO Research日前發布了2022年第三季度全球上市公司半導體設備制造商業務營收排名，其中排名前十位企業營收合計達275億美元，約合人民幣1983億元，同比增長 8.6%，環比增長 14.9%。

其中，排名第一的是美國應用材料公司（AMAT），2022 年第三季度營收近64億美元，約合人民幣461.億元；排名第二位的是荷蘭光刻機巨頭阿斯麥公司（ASML）；排名第三位的是美國泛林公司（LAM）；排名第四位的是日本東電電子公司（TEL）。CINNO Research表示，這前四大公司的半導體業務2022年前三季度的營收合計均已超過125億美元約合人民幣901億元，并且2022 年第三季度單季營收均為今年最高季度營收。

ASML市場占有率84%

三季度，ASML共售出86臺光刻機，在中國市場的收入占比達15%。

ASML執行副總裁兼首席財務官（CFO）羅杰·達森（Roger Dassen）表示，盡管不能對華出口最先進的設備，可能會對公司工具需求產生間接影響，但其仍能向中國大陸制造商提供非EUV光刻工具。

光刻機單機價值量高，每年出貨數量約 300~400 臺，其中 EUV 的供應比較有限。根據ASML、Nikon、Canon 三家光刻機財報數據統計，近兩年全球光刻機每年出貨量大約在300~400 臺之間，整體均價約0.3億美元。其中主要產品是KrF約90~100臺，ArFi約90~100臺。近幾年EUV出貨量在 逐步增長，全球僅有ASML具備供應能力，每年出貨30~50臺，均價超過1億美元。

ASML主導全球光刻機市場。從光刻機格局來看，2020年ASML占據全球 光刻機市場84%的市場空間，Nikon約7%，Canon約5%。ASML具有高度的壟斷地位，并且由于EUV 跨越式的升級進步，ASML在技術上的領先性更加明顯。  

全球光刻機龍頭ASML，高研發、高利潤率。ASML在2020年營業收140億美元，其中 75%的收入來自于銷售設備，25%的收入來自于服務。綜合毛利率52%，營業利潤率35%，凈利率32%。全年平均ROE約27%。

ASML：一家美國公司？

在ASML發展壯大過程中英特爾投了41億美元，拿下15%的股份，一度是最大股東，而臺積電投了14億美元占5%，而三星投了8億歐元占3%。而剩余的77%就是ASMI，以及其它投資者一共拿走了。

但后來EUV光刻機研發出來后，ASML股價大漲，于是intel、三星、臺積電又大量賣出ASML的股票，目前英特爾的股份已低于3%，而三星、臺積電甚至低于1%了。

從現在公開的數據來看，ASML第一大股東是Capital Research and Management Company（美國資本國際集團），擁有15.81%的股份。第二大股東是BlackRock Inc.（美國的黑巖集團），擁有7.95%的股份。第三大股東是Baillie Gifford（英國柏基投資），擁有4.54%的股份。

其它的股權都非常分散，持股機構高達1000多家，都是低于3%的一些小機構、小股東持股，所以總體來看，ASML是受美國資本控制的。

這也是為何ASML明明是一家荷蘭企業，卻總是聽命美國的原因，ASML生產的EUV光刻機，一般也是優先供應給intel、臺積電、三星這三家廠商。所以光刻機國產化十分急迫。

國產光刻機迎來黃金時刻

值得欣慰的是，上海微 90nm 光刻機項目已經正式通過驗收。上海微在 2002 年成立。2006 年公司光刻機產品注冊商標獲得國家工商局批準。2013 年國產首臺用于 2.5 代 AM-OLED TFT 電路制造的光刻機成功交付用戶。2016 年，首臺暨國內首臺前道掃描光刻機交付用戶。2018 年90nm 光刻機項目通過正式驗收。

SSX600 系列步進掃描投影光刻機采用四倍縮小倍率的投影物鏡、工藝自適應調焦調平 技術，以及高速高精的自減振六自由度工件臺掩模臺技術，可滿足 IC 前道制造 90nm、 110nm、280nm 關鍵層和非關鍵層的光刻工藝需求。該設備可用于 8 寸線或 12 寸線的大規模工業生產。

我國上海微電子生產的90nm的光刻機，可以用來做電源管理芯片、LCD驅動芯片、WiFI芯片、射頻芯片、各類數模混合電路等。90nm工藝的芯片完全可以滿足國民生產需求。芯片有幾十萬種，可以說70%的都是中低端光刻機生產的。

此外，90nm光刻機經過兩次曝光，可以得到45nm的芯片，三次曝光最高可以達到22nm的水平。

上海微電子生產的光刻機中的大部分零件都是通過全國采購所得，而自身專注于提升 核心技術、滿足顧客需求。高度外包使得上海微電子可以有充足的資金用于提升光刻機的核心技術，創造巨大的技術壁壘。通過零件外包，將大部分物力、人力布局于光刻機核心技術的研發，利于充分利用有限的資源速取得技術突破。

圖：來源于方正證券

不僅僅是上海微電子在發力光刻機，最近華為公布了一項與EUV光刻機相關的專利，能夠提升光刻機的精度以及良品率。

據介紹，華為的這項專利發明的核心內容，是提供了一種反射鏡、光刻裝置及其控制方法，能夠解決相干光icon因形成固定的干涉圖樣而無法勻光的問題，而且，華為研制的光刻設備可以在不改變光刻設備與基板的相對位置的情況下制備所需的圖案，從而避免了平移步驟和對準步驟，從而提高了處理效率以及在基板上的形成。

靠山山倒，靠人人跑，只有自己最可靠。核心工藝和裝備只有掌握在我們自己手中，才能避免受制于人。路漫漫其修遠兮，我國要想在光刻機領域實現完全自主國產化，還有很長的路要走。