日前國內一家科技企業表示它已實現14納米工藝的純國產，這意味著國內的芯片制造產業鏈已達到14納米，光刻機問題估計已得到解決，如此對于中國的芯片制造這個大難題或許也已取得了重大突破。

該科技企業指出它已實現了14納米工藝以上的純國產，即是采用國產的EDA軟件設計芯片，然后以國產的芯片制造工藝生產芯片，從而徹底擺脫了美國技術，這是一個巨大的系統工程。

此前EDA軟件幾乎被美國壟斷，美國三大EDA企業占有全球EDA軟件市場八成以上的份額，美國也以此限制中國芯片，限制美國的EDA軟件企業為中國芯片提供先進的EDA軟件，如今中國已量產的14納米工藝將無需再依賴美國EDA軟件了。

至于14納米工藝，此前無法實現純國產，關鍵就在于光刻機，其他芯片制造環節都已達到了14納米，而國產的光刻機企業早就已在28納米浸潤式光刻機上取得了進展，如今應該已投入生產。

28納米浸潤式光刻機可謂先進光刻機的重要門檻，從28納米到7納米工藝都可以浸潤式光刻機生產，技術基本是相通的，28納米浸潤式光刻機投產，接下來解決14納米光刻機、7納米光刻機都將加快研發，如此國產的7納米工藝量產就有了希望。當然以這個技術生產的7納米與采用EUV光刻機生產的7納米還有些差距，但是已能滿足國內九成的芯片需求。

目前國內生產的芯片大多數都是28納米以上工藝，這已能滿足國內七成的芯片需求，其實全球芯片有七成以上的芯片都是以成熟工藝生產的芯片，諸如汽車、家電、電視等產品都可以用28納米以上工藝生產的芯片，而且可靠性更高、成本更低。

中國芯片已成熟工藝生產已具有較強的競爭力，2022年上半年中國的芯片出口量增加了兩成多，甚至占領擁有強大芯片優勢的美國，美國家電制造商就表示離不開中國芯片，最終迫使美國修改了芯片規則，凸顯出中國芯片即使采用成熟工藝依然擁有獨特的優勢。

如果中國芯片解決14納米乃至7納米工藝的國產化問題，中國芯片的競爭力將更強，因為中國芯片在成本方面優勢明顯，以成熟工藝生產的芯片，價格只有美國芯片的四分之一，如果在芯片工藝方面的差距進一步減小，必然會進一步壓制美國芯片。

事實上從去年以來，全球芯片市場對7納米以下的芯片需求已出現減少的跡象，臺積電的7納米EUV工藝產能利用率暴跌五成、5納米工藝出現產能利用率不足的問題，原因就是先進工藝成本太高了，在全球各個行業都處于衰退的情況下，企業更看重成本，如此更是為中國芯片提供了發展的機會。

美國富豪比爾蓋茨一直都強調美國限制中國芯片無法阻止中國發展先進芯片技術，如今中國芯片在14納米乃至更先進的7納米都取得進展，印證了比爾蓋茨的預言，相反美國芯片卻因此蒙受了巨額的損失，2022年美國芯片的營收普遍出現了下滑，大舉裁員，僅是Intel就已裁員過萬人，美國的做法讓美國芯片陷入了困境之中。