彭博社引述消息人士報道，美光有望從日本政府獲得約2000億日元（約15億美元）財政補貼資金，以幫助其在日本生產下一代存儲芯片。

當地時間周三，美光科技表示，在日本政府的支持下，在未來幾年內向極紫外 (EUV) 技術投資最多5000億日元（約37 億美元）。

報道稱，最新的EUV芯片制造設備被引入美光廣島工廠，用于生產其下一代DRAM芯片（1-gamma節點）。

該公司表示，美光將成為第一家將EUV技術引入日本進行生產的半導體公司，并補充說，預計從2025年起將加大1-gamma的在中國臺灣地區和日本的生產力度。

國際電子商情了解到，去年實施的《半導體援助法》是日本努力提升國內半導體生產的最新舉措，對于符合要求的芯片制造企業，將有可能獲得“半額”設備費用的補助資金。

《半導體援助法》對在日本國內興建先進半導體工廠提供補貼的“特定高度情報通信技術活用系統開發供給導入促進法（5G法）”等相關法案自2022年3月1日實行，只要申請企業提出的生產計劃符合“持續生產10年以上”、“供需緊繃時能增產應對”等條件，最高將可獲得設備費用“半額”的補助金。

眾所周知，半導體行業的發展程度是國家科技實力的重要體現，全球主要國家和地區競相發展的重要新興技術和產業。和其他國家一樣，日本近年來也一直在努力重振其芯片行業，其全球市場份額已從1980 年代后期的約50%降至約10%。