近日，美國的三家芯片巨頭英特爾、高通和英偉達以及美國半導體協會（SIA）齊聲向美國政府施壓，勸說其不再對中國采取限制措施。這一動作引發了廣泛關注，然而背后隱藏的原因卻是這些企業擔心重演ASML在美國對中國科技壓制中的命運。

早在此前，ASML作為全球芯片制造行業的關鍵供應商，在美國的壓力下不得不放棄中國市場，成為了科技戰中的“炮灰”。現在，中國的首臺半導體光刻機問世，填補了中國在半導體產業技術上的空白，但對于這些海外芯片巨頭來說，它可能意味著市場份額的減少和利潤的喪失，因此他們不得不迫使美國政府改變對中國的禁令。中國的科技進步已經不容忽視，海內外的芯片企業應當正視形勢，與中國開展創新合作。


來自中國的反制

今年6月30日，荷蘭政府頒布了新的一系列針對我國半導體發展的出口管制條例。這是在美國、日本之后，宣布半導體生產設備出口管制最新措施，尤其限制相關設備流入中國。的出口管制條例頒布后，ASML公司要出口光刻機就必須得到政府的許可，否則就違反了政府法令。從EUV光刻機受限，擴大到部分浸潤式DUV系統也不能出口，可以說是全方位的圍追堵截了。

不過，荷蘭做夢也不想到，僅僅過了3天，7月3日中國商務部就宣布，為了維護國家安全，將決定對鎵、鍺相關物項實施出口管制，一石激起千層浪，美國、日本、荷蘭都傻了眼，紛紛表示抗議。中國的反制有多厲害呢，可以說，除了帶頭對中國芯片產業設限的美國，日本和荷蘭都將深受其害，而荷蘭光刻機公司ASML更是面臨嚴峻的挑戰，一不小心就有可能淪為“炮灰”。

鎵、鍺出口管制對于西方來說無疑是捏在了七寸之上。有人或許有疑問，為什么不出口管制稀土呢，眾所周知，稀土是高端工業中的稀缺資源，又是中國占據技術優勢的項目，限制稀土無疑能讓外國生產鏈感受到受制之痛。事實上，鎵鍺的出口管制另有深意。鎵和鍺之所以之前默默無聞，是中國作為全球化制造大國的一環掩蓋了它們的重要地位。

由于我國對全球的平價供應，鎵和鍺的生產集中度很高。作為第二代、第三代半導體的重要材料，砷化鎵、氮化鎵都提高了半導體的功能性，鎵被稱為“電子工業脊梁”，廣泛用于半導體、光電材料、太陽能電池等等領域。而作為優異的紅外光學材料，鍺也是高科技制造中不可缺少的材料，對于電子信息產業和國防領域來說，都有重要的影響。因此，雖然兩者不是稀土，對西方的半導體甚至高科技生產領域來說，那都是必須常備的物資。

只不過，鎵和鍺的最大供應商是誰呢？中國。目前世界探明的有色金屬鎵只有27.93萬噸，中國有19萬噸多。在2021年，全球產量中，中國產量超過90%。而鍺的儲量，中國雖然不是最多，但中國的產出供應了全球68.5%。對于荷蘭來說，只要算一筆賬，就知道中國出口管制以后，對荷蘭的影響有多大了。


荷蘭和ASML成了“炮灰”

近年來，美方不斷挑起“芯片戰”，不但自己搞半導體出口限制，還拉攏日、荷一起搞。日前，日本出臺了23種半導體設備的限令，荷蘭也出臺了先進半導體制造設備的額外出口管制措施。

不過好戲才剛開始，他們出臺了相關措施后，我們也對鎵和鍺兩種重要原材料進行出口管制。這下引起了廣泛關注，而美國媒體坐不住了，居然出來甩鍋了。近日，美媒《華爾街日報》日前發文表示，光刻機禁令都是荷蘭所為。報道指出，這份禁令（荷蘭光刻機禁令）并非源自美國，而是來自荷蘭，國際半導體市場正在陷入波瀾！言下之意是說，因為荷蘭出臺了光刻技術的禁令，引起了半導體市場波瀾。

而這個波瀾，說白了是因為鎵和鍺兩種重要原材料，他們認為以后可能用不了了。而在美媒眼里，這一切的過錯都在荷蘭，與美方沒什么關系。在美媒眼里，荷蘭和ASML只不過是“炮灰”而已，需要的時候，趕鴨子讓它們上。我們都很清楚，美方一直在半導體領域里加強限制，為了達到目的，老美是多次施壓荷蘭。

但事實上，荷蘭和ASML先前是一直對此事保持了距離，并不想參與進來。ASML還多次的發出警告，中國是全球半導體產業的重要參與者，希望不要與其脫鉤。然而，美方卻多次“游說”荷蘭，甚至還表示：即便不同意也會想辦法讓其同意。如此情況之下，荷蘭也就硬著頭皮而上，出臺了相關的光刻機出口管控措施。不難看出，這都是在配合美方的出口管制措施，這也得到了美商務部副部長唐納德·里德的認可，他表示：“我們非常感謝荷蘭政府在解決這個共同的挑戰方面與我們合作。”

可是，這才不到兩周的時間，情況又反轉了。因為我們出手了，對鎵和鍺兩種重要原材料的出口作出了管制，如果西方無法進口這些原材料，日子就不好過了。因此，美國媒體開始“批評”荷蘭了，言語中盡是：光刻技術禁令是你荷蘭弄的，現在被反制了，你要負責。這是什么情況？言外之意就是暗示荷蘭才是罪魁禍首，如果想找麻煩冤有頭債有主，不要連累到美方。

很顯然，這就是妥妥地把荷蘭和ASML當成“炮灰”了，用完了就扔。


中國首臺國產光刻機交付

近日，中國首臺國產光刻機在北京交付使用，這一消息引起了全球科技界的廣泛關注。光刻機作為半導體制造過程中的核心設備，一直以來都是美國和荷蘭等發達國家的技術壟斷領域。然而，中國的突破意味著這一局面正在發生改變，美國和荷蘭自討苦吃。

光刻機是半導體制造過程中最關鍵的設備之一，用于將電路圖案投射到硅片上，是芯片制造的核心環節。然而，由于光刻機技術的復雜性和高度的專業性，全球范圍內只有少數幾個國家能夠進行光刻機的研發和生產。美國和荷蘭一直以來都是光刻機技術的主要供應國，壟斷了全球市場。

然而，中國在光刻機領域的突破意味著這一局面正在發生改變。據媒體報道，中國首臺國產光刻機的交付，標志著中國在光刻機技術上取得了重要的突破，毫無疑問這也是中國半導體產業發展史上的里程碑。這臺光刻機由中國科學院和中國電子科技集團公司等聯合研發，它采用了自主研發的技術，具有與國際先進水平相當的性能指標。

美國和荷蘭作為光刻機技術的主要供應國，一直以來都享有壟斷地位。然而，中國的突破將給它們帶來巨大的沖擊。中國的光刻機技術已經達到了與國際先進水平相當的程度，不僅在性能指標上可以與美國和荷蘭的產品相媲美，而且在價格上具有明顯的競爭優勢。這將使得中國的光刻機在全球市場上具有更大的競爭力。

中國首臺國產光刻機的交付，不僅對中國科技實力的提升具有重要意義，也對全球科技競爭格局產生了重要影響。中國的突破將加速全球光刻機技術的發展，推動全球科技創新的進程。同時，中國的突破也將為中國在國際科技合作中發揮更大的作用提供了新的機遇。

然而，光刻機技術的發展仍然面臨著許多挑戰。光刻機技術的復雜性和高度的專業性使得其研發和生產仍然具有一定的難度。同時，全球范圍內的科技競爭也在不斷升級，中國需要繼續加大投入和研發力度，保持科技創新的領先地位。

總之，中國首臺國產光刻機的交付標志著中國在光刻機技術領域邁出了重要的一步。這將為中國在半導體制造領域的發展提供堅實的基礎，也將為全球光刻機技術的發展注入新的動力。中國的突破不僅是科技實力的體現，也是中國在科技創新方面取得的重要成果。相信在不久的將來，中國將在光刻機技術領域取得更多的突破和成就。