在當前的硅基芯片制造過程中，光刻法是唯一的量產方法。

什么叫光刻法，既然就是利用光線，照射刻錄好的光掩膜板，把上面的電路圖，投影到硅晶圓上，類似于投影機的原理一樣。

而這個過程中，需要一種最重要的工具，那就是光刻機，而光刻機的分辨率，就決定了芯片工藝。

所以光刻機有DUV光刻機、浸潤式光刻機，EUV光刻機等，這些一代又一代的光刻機，提高的關鍵都是分辨率，也就是投影的精度，而對應的就是芯片工藝，比如EUV光刻機，用于7nm及以下的芯片。

目前全球僅有4家廠商，能夠生產制造芯片的前道光刻機，分別是荷蘭的ASML、日本的尼康、佳能，中國的上海微電子。

不過大家的水平不一樣，ASML>尼康>佳能>上海微電子。

ASML是全球唯一一家能夠制造EUV光刻機的廠商，而尼康的最高水平是浸潤式光刻機，佳能與上海微電子的水平更差一些。

所以這就奠定了ASML的王者地位，只要誰的芯片工藝想進入7nm，就必須找ASML買EUV光刻機，否則就不行。

所以一直以來，也有眾多的廠商，在研究另外的技術，以期不用EUV光刻機，也能制造7nm及以下的芯片。

那么有廠商突破了么？目前還沒有，不過應該很快了，我想看到這個消息，ASML應該也是有點慌了。

近日佳能就表示，到2025年，可以基于自己的NIL納米壓印技術，實現5nm芯片的制造，不再需要EUV光刻機了。

NIL納米壓印技術，是什么技術？從名字就可以看出來，類似于印刷的一種技術。

光刻技術是投影原理，而NIL納米壓印，是將電路圖刻錄到一個專用的“章子”上，然后再將這個“章子”蓋到硅晶圓上，在硅晶圓上就有了電路圖，最終制造成芯片。

納米壓印的難點，是如何將精細的電路圖刻錄到章子上，目前佳能已經有成熟的技術，不過精度還不太高，佳能與鎧俠合作，應用于部分存儲芯片的制造上。

不過據稱最近有了突破，所以佳能再吹牛稱，到2025年要實現5nm芯片的制造，不再需要EUV光刻機。

那么國內在NIL納米壓印技術上，又表現的如何呢？其實國內也有很多公司在研究這個技術，不過總體而言，比佳能還是落后一些。

從專利來看，在NIL納米壓印技術上，佳能專利擁有913件，差不多接近所有專利的100%，明顯是一家獨大的。

不過雖然專利不行，國產技術還是有成績的，比如天仁微納，就有類似的技術，只不過目前沒有用在邏輯芯片上，更多是用在DOE、AR／VR衍射光波導（包括斜齒光柵）、線光柵偏振、超透鏡、生物芯片、LED、微透鏡陣列等領域。

而從精度來看，據說已經在150／300mm基底面積上實現高精度（優于10nm ），真假未知，但如果是真，還是挺讓人興奮的，希望國產加油吧，如果真的國產NIL納米壓印也實現到5nm，那根本就不怕光刻機卡脖子了。