近日，芯片光刻機又有了大突破，不過都和中國無關，一是俄羅斯報道稱只花了37萬元，就生產出了DUV級別的光刻機，然后還表示在明年要搞定7nm的樣機。

另一家是日本光刻機巨頭佳能表示，生產5nm芯片的光刻機正式銷售，不過這種光刻機，不是大家熟悉的EUV光刻機，而是采用NIL納米壓印技術。

這兩個消息，都是國外的突破，都與中國光刻機無關，但這兩件事情，還是給我們非常大的啟示，我覺得國產光刻機，真的需要重視。

俄羅斯之前是不能生產光刻機的，哪怕最簡單的i線、G線光刻機，俄羅斯都是進口的，這次居然直接生產出了DUV級別的，還只花了37萬元，你說這震撼不震撼？

同時俄羅斯還提出了X射線方案，表示明年要生產出7nm光刻機的樣機，這可是相當大的一步了。

而佳能之前的的技術只有ArF光刻機，與上海微電子是同一水平的，現在突然就進入了5nm，還采用了NIL這種全新的技術，繞過了EUV方案。

這說明，光刻機并沒有想象中的難，只要努力，一定能夠突破的，要知道中國在光刻機技術上有很多積累，從其研發歷史來看，其實最早與美國相差并不大的，有很多經驗，難道還比不上俄羅斯？還比不上佳能？

另外，俄羅斯換道X射線方案，佳能換道 NIL技術方案，都繞開了EUV技術，為什么會繞開，這是因為ASML已經將EUV方案的核心供應鏈，全撐在自己手中了，其它廠商，要想在EUV上走通，非常難，需要重塑整個供應鏈。

而俄羅斯的X射線方案，佳能的NIL方案，都繞開了EUV，就是避免在ASML掌握的地盤上重新搞一堆供應鏈出來，而這兩種方案，似乎都有了好的結果，所以我們是繼續在ASML壟斷的路上死磕EUV，還是換道超車呢？