全球諸多國家都在研發繞開ASML的EUV光刻機的芯片制造方案，不過目前為止真正量產其實僅有一家，而這種設備即將投入生產，將徹底改變芯片制造行業，大幅降低先進芯片制造成本，還將讓ASML的EUV光刻機變成廢鐵。

推動芯片制造變革的是日本的佳能，佳能早在數年前就宣布研發成功無需浸潤式光刻機的NIL工藝，不過當時的工藝還在10納米以上，采用NIL工藝的也僅有日本鎧俠，日本鎧俠用這種工藝生產存儲芯片。

由于NIL工藝局限于10納米以上，導致它并未被全球芯片制造行業接受，為了進一步發展該項工藝，佳能曾揚言可以將該項工藝發展到5納米，在過去兩年它已成功將該項工藝發展到10納米以下，如今更進一步將該項工藝推進到5納米，可謂進展神速。

該項工藝的最大優勢就是成本，NIL的設備成本僅為EUV光刻機的10%，而耗電量也只有EUV光刻機的10%，這就意味著采用NIL設備的5納米工藝成本將降低九成，對于當下的芯片行業來說將極具吸引力。

從2022年下半年以來，全球芯片行業就進入供給過剩的階段，導致全球芯片價格急跌，一些芯片的價格甚至暴跌九成，為了進一步降低成本，全球芯片企業都在尋求更低的芯片制造成本，為此一些芯片企業將芯片訂單交給三星，迫使臺積電降低代工價格，然而降價幅度最高也只有兩成，遠遠無法滿足要求，佳能的NIL工藝成本優勢無疑將極具吸引力。

隨著佳能宣布可以向全球供應5納米的設備，全球芯片價格可望進入新一輪的下降周期，此前美國模擬芯片龍頭就曾傳出將芯片價格下降九成，借此確保它的市場，芯片價格大降給它帶來巨大的壓力，而佳能的NIL工藝對于這些美國芯片企業來說將是福音。

在美國芯片的壓力下，或許部分芯片制造企業將開始大規模采用佳能的NIL設備，進而進一步降低芯片制造成本，相比起現有采用EUV光刻機生產的5納米工藝，大幅降低九成芯片制造成本的NIL工藝將有望真正將芯片降低至白菜價。

佳能的NIL工藝對于ASML來說可謂是滅頂之災，EUV光刻機為ASML的最大利潤來源，原因就是全球僅有ASML能制造EUV光刻機，這也意味著ASML由此壟斷著7納米及以下工藝，然而如今佳能的5納米NIL設備開始大規模交貨，那么ASML在7納米以下的壟斷格局被打破，坐享厚利的局面不再存在。

其實當年在光刻機市場，真正的老大正是佳能，只不過后來佳能錯失了浸潤式光刻機市場，隨后美國又將EUV光刻技術交給ASML，才導致佳能的沒落，如今佳能再度進入先進芯片設備市場不過是拿回它應得的東西罷了，體現了佳能在該行業的深厚技術底蘊。

不過業界人士也認為佳能的NIL設備固然有巨大的潛力，但是考慮到當下擁有7納米及以下工藝的三大芯片制造企業Intel、三星、臺積電等都已采購了大量的EUV光刻機，他們不太可能短時間內拋棄EUV光刻機而轉用NIL設備，這可能會給佳能的NIL設備銷售造成困擾。

真正能幫助佳能進入7納米以下芯片設備市場的其實是中國芯片，可惜的是由于眾所周知的原因，佳能暫時無法將先進NIL設備賣給中國芯片企業，這成為佳能的遺憾，佳能打垮ASML可能會需要較長的時間。