據韓國媒體 BusinessKorea 報導，韓國產業通商資源部于 5 月 13 日對外宣布，全球光刻機龍頭大廠阿斯麥（ASML）計劃未來4年將在韓國建設光刻設備再制造工廠及培訓中心，預計在 2025 年建設完成。

此次ASML計劃在韓國新建的EUV再制廠，主要用途就是為韓國當地運行的EUV光刻機維護、升級提供助力，將耗資2,400億韓元（2.1億美元）。所謂再制造，是指通過必要的拆卸、檢修和零部件更換等，將廢舊產品恢復如新的過程。
 
ASML是全球唯一一家能夠生產EUV光刻機的半導體設備供應商。但是ASML的EUV光刻機產能十分有限，一年只能生產30臺左右EUV光刻機。
 
據了解，目前臺積電已取得了50臺EUV設備，而三星僅有10臺。
 
此前韓國政府發布半導體強國建設戰略規劃，將對半導體研發和設備投資的稅收減免最高將分別提至40～50%和10～20%，并且還擬斥資約 4500 億美元建設全球最大的芯片制造基地，為芯片制造業企業減免稅負、提供國家補貼。此次阿斯麥赴韓國建廠，對加快韓國半導體建設。