8月5日，璞璘科技在其微信公眾號中宣布，其自主研發的首臺PL-SR系列噴墨步進式納米壓印設備已順利通過驗收并交付國內特色工藝客戶。這一里程碑事件標志著我國在高端半導體裝備制造領域邁出堅實步伐，成功打破國外廠商在該領域的技術壟斷。

據悉，PL-SR系列設備實現了多項關鍵突破。該設備攻克了步進硬板的非真空完全貼合、噴膠與薄膠壓印、壓印膠殘余層控制等核心技術難題，可支持線寬小于10nm的納米壓印光刻工藝。值得注意的是，這一技術指標已超越國際巨頭佳能同類產品FPA-1200NZ2C（支持14nm線寬）的水平。設備配備自主研發的模板面型控制系統、納米壓印光刻膠噴墨算法系統等核心模塊，展現出強大的自主創新能力。

相比傳統EUV光刻技術，納米壓印技術可降低60%的設備投資成本，并將耗電量控制在EUV技術的10%。特別在存儲芯片制造領域，該技術因適合重復性圖形結構而展現出獨特優勢，為國內存儲芯片廠商突破制程瓶頸提供了新的技術路徑。目前，該設備已完成存儲芯片、硅基微顯等多個領域的研發驗證。

此次突破具有重要的戰略意義。佳能同類產品此前明確對中國禁運，PL-SR系列的成功交付不僅打破了這一技術封鎖，更為我國半導體產業鏈自主可控提供了關鍵裝備支撐。雖然納米壓印技術在復雜邏輯芯片制造上仍有效率瓶頸，但在存儲芯片等特定領域已展現出替代潛力，有望助力國內廠商提升市場競爭力。