Tokyo Electron（TEL）前員工涉及竊取臺積電2nm技術案，9月10日傳出，TEL社長兼CEO河合利樹赴新竹與臺積電董事長暨總裁魏哲家會面，針對竊密案親自道歉，并提出后續處理方向。

SEMICON Taiwan 2025國際半導體展近期于南港展覽館盛大登場，焦點意外落在河合利樹身上。

據了解，傳出河合利樹赴新竹與魏哲家會面，為前員工涉及2nm技術泄露案親自道歉，并提出后續處理方向。熟知內情人士透露，河合利樹每年參與中國臺灣半導體展，固定拜訪魏哲家。

今年因泄密案敏感，河合利樹選擇低調不公開露面，避免尷尬。雖然兩人密會細節并未對外說明，但被視為TEL對此事件的正式表態，也成為半導體產業關注焦點。

9月10日，中國臺灣經濟部門負責人龔明鑫拒絕就針對臺積電2nm制程技術的商業機密竊取案發表評論，因擔心此案可能影響中國臺灣和日本的關系。龔明鑫表示，調查應遵循證據，并強調經濟部門尊重司法部門的調查結果。

據稱，一名加入TEL的前臺積電工程師，在試圖提升這家日本半導體設備制造商正在開發的2nm蝕刻機性能時，得到了兩名臺積電員工的幫助，涉嫌竊取臺積電的商業機密。三人均因涉嫌泄密事件被起訴，并被公司解雇。

此案令人意外，因為涉及的是一家日本公司的員工。

中國臺灣高等檢察院目前正在努力證實這些工程師是單獨行動，還是受日本公司指使。如果涉嫌泄密的幕后黑手不是TEL及其中國臺灣子公司，那么將為這家日本公司洗脫罪名。

由于臺積電的2nm技術代表著全球最先進的半導體工藝，該案已根據中國臺灣安全法案提起公訴。如果工業間諜罪名成立，三名嫌疑人可能面臨嚴厲的監禁。

外界猜測了這名TEL工程師涉嫌竊取臺積電2nm制程技術數據的動機。有報道稱，該工程師在TEL面臨業績壓力，早在2023年8月就向仍在臺積電工作的前同事尋求幫助。據稱，其目的是獲取關鍵數據，以使得TEL的設備能夠通過臺積電的驗證，從而促進交易和采購。

臺積電發現違規行為，并于2025年7月8日向中國臺灣檢察機關和調查人員報告了涉嫌泄密事件，案件由此曝光。調查局立即展開了兩輪搜查和訊問。中國臺灣當局認定此案嚴重威脅地區安全和行業競爭，并已獲得法院批準拘留嫌疑人。檢察機關正在尋求對被告判處7至14年有期徒刑。

近年來，中國臺灣高科技產業屢屢遭遇來自其他地區的競爭對手挖角高級研發人才、竊取核心產業技術等事件，嚴重影響了中國臺灣的高科技發展和競爭力。鑒于《商業機密法》的不足，中國臺灣安全法案新增了保護措施，明確懲處任何為其他國家/地區或外國機構竊取中國臺灣核心技術的行為。

2025年3月31日，中國臺灣宣布修訂核心技術清單，共計32項，其中包括14nm以下集成電路制程及相關的關鍵氣體、化學品和設備技術。用于人工智能（AI）計算的高性能（HPC）芯片設計技術也被納入清單。被判犯有經濟間諜罪的違法者將面臨5至12年的監禁，并處以500萬元新臺幣（16.5萬美元）至1億元新臺幣的罰款。（校對/趙月）