據多家行業媒體援引知情人士近日消息，中芯國際（SMIC）已開始對首款國產深紫外（DUV）光刻機進行評估和測試。

據悉，中芯國際正在測試的深紫外線（DUV）光刻機由上海初創公司宇量昇生產，采用浸沒式技術，類似于ASML所采用的技術。這臺國產的28納米（nm）DUV光刻機，可利用“多重曝光技術”生產7納米芯片，即在沒有EUV光刻機的情況下，通過多次光刻實現更精細線路圖案的折中方案。

光刻機被譽為半導體制造的“皇冠明珠”，其技術水平直接決定了芯片的制程工藝和性能。目前，最先進的極紫外（EUV）光刻機由荷蘭ASML公司壟斷，用于7納米及以下先進制程的生產。然而，對于更廣泛的成熟制程市場——包括28納米、40納米乃至部分14/12納米節點——深紫外（DUV）光刻機（主要指ArF干式和浸沒式光刻機）才是真正的“主力軍”。

這些成熟制程芯片廣泛應用于汽車電子、工業控制、物聯網、消費電子、電源管理等領域，市場需求巨大且穩定。長期以來，中國在DUV光刻機領域也嚴重依賴進口，主要供應商同樣是ASML。盡管美國等國家的出口管制主要針對EUV和最先進的DUV設備，但對成熟制程設備的獲取也時常受到限制或延遲，給中國的芯片產能擴張帶來了不確定性。

知情人士透露，中芯國際試用的這類設備也能被推向極限以生產5納米處理器，但良率會偏低，無法再進一步制造更先進的產品。不過，在美國出口管制政策下，即使用EUV光刻機多重曝光工藝良率低、成本高，但至少還有選擇。

目前尚不清楚該光刻機是否及何時能夠用于高端芯片的量產。但毫無疑問，成功研發并量產國產DUV光刻機，對于保障中國龐大的成熟制程芯片供應鏈安全、提升產業鏈韌性具有至關重要的戰略意義。

 

責編：Jimmy.zhang