11月3日消息，EUV工藝是5nm節(jié)點之后無法繞過的先進工藝，EUV光刻機只有荷蘭ASML能產，但日本在EUV光刻膠領域很有優(yōu)勢，針對2nm及以下節(jié)點，日本三大化工巨頭都在積極擴產。

日本半導體材料廠東京應化工業(yè)（Tokyo Ohka Kogyo）日前宣布，將在韓國平澤投資200億日元，約合1.3億美元建設光刻膠工廠，預計2030年正式投產。

平澤是三星、SK海力士等韓國半導體公司的重要生產基地，該工廠投產后應化工業(yè)在韓國的產能將翻三四倍，更好地滿足客戶需求。

此外，應化工業(yè)還會在韓國再投資120億日元建設高純度化學廠，同樣會應用先進半導體工藝，此舉被外界視為日本廠商積極擴產，提前部署2nm及更先進工藝的需求。

同樣是EUV光刻膠巨頭的JSR公司也會在韓國投資建設MOR型光刻膠工廠，而且明年底就會量產。

另一家百年老店Adeka阿德卡也將在日本投資擴產，花費32億日元在日本建設MOR型光刻膠工廠，預計2028年4月份量產。

MOR型光刻膠以金屬氧化物為基礎，主要是為EUV光刻工藝而研發(fā)的，國內也在積極建設MOR光刻膠研發(fā)及生產線。

不過在半導體材料，尤其是光刻膠方面，日本公司長期占據世界91%以上的份額，雖然本土暫時沒有2nm工藝芯片廠，但他們積極布局海外，對2nm及以下的先進工藝一樣志在必得。