近年來，由于中美貿易戰及科技戰的持續，中國大陸正在傾全國之力發展自主半導體產業，但是在光刻機等關鍵的半導體設備上，仍嚴重的受制于人，自主之路仍然困難重重。

以半導體制造所必須的光刻機來說，目前主要分為DUV 和EUV 光刻機。DUV 一般用于7nm及以上制程的芯片生產，而EUV 則主要用于7nm及以下尖端制程芯片的生產。目前全球生產EUV光刻機的廠商也只有荷蘭的艾司摩爾(ASML) 一家。

想生產7 nm以下先進制程芯片，就必須有ASML 的EUV光刻機。目前，由于美國方面的阻撓，中國大陸企業仍無法購買EUV光刻機。

資料顯示，在半導體制造過程中成本占比比最高的設備，分別是光刻設備、刻蝕設備、薄膜沉積設備和過程檢測設備，這四類設備約占所有生產線設備成本的74%。其中，光刻機比重約21%、薄膜沉積類設備占比22%、刻蝕設備占比20%、過程檢測設備占比11%。目前這4類設備，中國大陸國產化比例都相對較低，其中光刻設備低于1%，過程檢測設備約2%，刻蝕類設備約7%，薄膜沉積類設備約8%。

除了晶片制造設備，還有更重要的材料部分，現階段大陸也相當依賴國外進口。以中芯國際最新14nm制程來說，部分材料甚至100% 依賴進口，以ArF光刻膠為例，國內目前幾乎都依賴于進口，而EUV光刻膠更是沒有突破。

報導強調，即便中國廠商能拿到先進制程設備材料，但最后是否成功的關鍵，還是取決于芯片制造技術。并不是有設備、材料就一定順利進入7nm以下先進制程。如果只有設備材料就能跨過門檻，那么格羅方德、聯電等廠商早就追上臺積電，但最后還是放棄，可見越尖端先進制程芯片制造技術門檻也越高，同時良率的提升也越困難。