2021年12月8日，英諾賽科（珠海）科技有限公司為ASML光刻機成功導入8英寸硅基氮化鎵量產線舉辦了慶典。英諾賽科于2021年引入ASML光刻機，憑借著其卓越的成像性能和獨特的TWINSCAN架構（雙晶圓工件平臺），英諾賽科進一步提升了硅基氮化鎵功率器件制造的產能及產線良率。此次慶典上，ASML副總裁兼中國區總經理沈波代表ASML被英諾賽科授予“最佳戰略合作伙伴”稱號。

近年來，相較傳統硅材料，氮化鎵(GaN)和碳化硅(SiC) 等第三代半導體，以其更小尺寸、更高轉換頻率、更高功率密度等特點，逐漸成為了全球半導體產業的新焦點。此新材料可滿足節能、減排、智能制造等全球戰略需求。氮化鎵是“第三代半導體”關鍵材料之一，具有廣闊的市場前景，可滲透到包括消費、工業和汽車類電子應用領域。作為全球領先的8英寸硅基氮化鎵芯片制造商（IDM），英諾賽科一直致力于推動第三代半導體制造技術的創新和革命。

英諾賽科首席執行官孫在亨表示：“我們在今年第二季度引進了ASML光刻機，改善了光刻工藝窗口，進一步提高了產能和產線良率，帶來了可觀的成本效益。在設備入駐后，雙方技術團隊密切合作，通過現場驗證和快速迭代，技術挑戰迎刃而解，在短短三個月內實現試生產，最終在10月進入正式量產階段。通過與半導體設備領跑者ASML的合作，加快了英諾賽科產品推向市場的速度，助力了氮化鎵半導體的蓬勃發展。”

這是一次重大突破，ASML光刻機首次進入8英寸硅基氮化鎵量產線。為了給英諾賽科提供更有力的支持，ASML始終根據其制造需求不斷升級光刻設備ASML光刻機的順利入駐將持續助力英諾賽科的大規模量產，為其長期發展保駕護航。

“我們很榮幸能成為英諾賽科的合作伙伴，并為此次得獎感到自豪。英諾賽科的蓬勃發展反映了第三代半導體近年來的突飛猛進和長期的發展潛力”沈波說，“ASML一直致力于以領先的光刻技術為客戶提供不懈的支持和服務，以推動整個半導體行業的創新發展。我們將繼續為英諾賽科的持續發展提供先進的技術和優質的服務。”

ASML 深紫外光刻業務資深副總裁Ron Kool表示：“我們也欣喜地看到ASML TWINSCAN的卓越性能首次在8英寸硅基氮化鎵芯片制造領域得到驗證。我們完全有信心支持英諾賽科未來的持續增長。”