ASML有多重要，ASML生產的EUV光刻機有多重要，相信每一個關注芯片產業的人都清楚。

在當前情況之下，任何一家芯片企業，如果工藝想進入7nm及以下，ASML的EUV光刻機就必不可少，因為只有它能夠生產。

但ASML沒有完全的自主權，他無法真正的決定將自己的EUV光刻機賣給誰，最終它還得聽美國的，比如ASML在2018年的時候，就想向中國出口最先進的EUV光刻機，最后美國不允許他賣，所以4年過去了，這臺EUV光刻機都沒交貨。

也正因為如此，所以中國一直在努力的研發自己的光刻機，特別是EUV光刻機，一旦中國廠商能夠生產EUV光刻機了，那么ASML就徹底的沒有競爭力了。

但近日，阿斯麥（ASML）CEO溫彼得（Peter Wennink）表示。“中國不太可能獨立復制（replicate）出頂尖的光刻技術。”

不過這樣說完之后，他還是做了補充：“這也并不是絕對不可能，因為中國的物理定律和我們這里是一樣的”。

那么頂尖光刻機的難點到底在哪里？其實主要有三塊，一塊是曝光光源，也就是極紫外線的產生。

第二塊是對準系統，也就是如何將產生的紫外線收集起來，并使其具有方向性和精準度。第三部分才是透光鏡頭等技術的整合。

而這三部分之中，前兩部分其實都不完全算是ASML的技術，是ASML整合德國TRUMPF、德國的蔡司公司的產品和技術。第三塊才主要是ASML的技術。

但一臺EUV光刻機，有超過10萬個零件，來自于上千家供應鏈，如果中國想要獨立的制造出來，意味著需要上千家供應鏈崛起，然后都達到頂尖水平，這個確實比較難。

不過溫彼得最后補充的話，也是留了余地的，那就是也并不是不可能，還是有可能的。畢竟溫彼得在去年4月份還說過，“出口管制將加快中國自主研發，15年時間里他們將做出所有的東西”。

那么15年內，是中國研發出全球最頂尖的光刻機，還是ASML放開出口？