眾所周知，前段時間佳能正式在官網官宣，其旗下的NIL納米壓印光刻機生產設備 FPA-1200NZ2C出貨了，而這個光刻機，與EUV光刻機不同，是繞開EUV的另外一種納米壓印技術，但是能夠生產5nm芯片。

一時之間，讓整個芯片圈震蕩，因為以前所有7nm以下的芯片制造，都必須使用EUV光刻機，而全球僅ASML一家能夠生產EUV光刻機，佳能此舉相當于打破了ASML壟斷，能夠改寫整個市場格局。

不過，當時很多人對佳能的NIL納米壓印光刻機存疑，因為究竟什么時候銷售，成本又是什么樣的，能效比，效率，良率等都沒有。

而近日，佳能首席執行官三井藤夫接受媒體采訪，說出了很多關鍵的指標參數，或許可以部分解決大家的疑問了。

按照三井藤夫的說法，佳能的納米壓印光刻機，其售價只有EUV光刻機的10%左右。同時其耗電量也只有EUV 技術的10%。

另外從總投資成本來看，用NIL納米壓印技術，可讓設備投資成本降低至原有EUV設備的40%左右。

而關于納米壓印光刻機，三井藤夫提到，它可以更為靈活的為客戶生產小批量芯片，甚至可以讓芯片設計工廠，不必再依賴于晶圓代工廠來進行流片，以及生產小批量的芯片。

由此可以推測，其量產能力應該不會非常強，畢竟對于一般的芯片設計企業而言，不需要大規模的產線，只需要小批量的生產線來驗證即可，所以納米壓印光刻機，更適用于小規模生產。

估計到了這里，馬上就會有人反應過來，那么這比較適合華為，華為是芯片設計廠，但目前因為眾所周知的原因，制造被卡了，所以急需這種設備，自己生產芯片，又是5nm工藝。

而三井藤夫正確認，這種設備是不能賣到中國來的，之前日本的出口管制清單，當中就有限制“可實現45nm以下線寬的壓印光刻裝置”。

而最為明確的規定則是用于14nm及以下芯片制造的設備，是無法出口到中國大陸來的，所以佳能這種設備，也無法賣給中國。

但不管怎么樣，雖然我們暫時無法買到，但也給我們指了一個方向，同時也給了ASML一擊暴擊，后續EUV光刻機，也沒這么神了。