一直以來，中國大陸是買不到ASML的EUV光刻機的，我們只能買到DUV光刻機，而DUV不論先進，還是落后，都能隨便買，ASML重申了好多次的，這個大家都清楚。

不過，按照荷蘭，美國等的禁令，從2024年1月1日開始，ASML最新的DUV光刻機NXT：2100i、2050i已經不能賣給中國大陸了，這兩種的許可證被吊銷了。

雖然ASML沒有說，另外兩臺浸潤式DUV光刻機NXT:2000i，NXT：1980Di還能不能賣，但估計也夠嗆，因為按照美國2023年10月份的禁令要求，NXT：1980Di實際上也是不行的，其DCO值超過了美國的限制。

至于日本，則卡的更嚴重，40nm的設備就不能賣到中國大陸來的，所以尼康的浸潤式光刻機，不管什么型號，都是無法賣到中國來的。

正因為如此，所以很多人擔心，接下來我們需要浸潤式光刻機怎么辦？畢竟進入65nm以下，就需要用到浸潤式光刻機了，普通的干式DUV光刻機，其最小工藝制程，只在65nm的。

事實上，大家真的不用愁，至少3-5年內，中國大陸是不缺浸潤式DUV光刻機的。

一方面是前面已經說過了，ASML沒有將話說死，只說NXT：2100i、2050i這兩款的許可證吊銷了，還有NXT:2000i，NXT：1980Di這兩款啊，這4款浸潤式DUV光刻機，精度是基本相同的，只是效率不同而已。

另外一方面，2023年，中國大陸向ASML采購了約600億元的光刻機，是2022年采購量的3倍左右，其中以浸潤式DUV光刻機為主，說明我們早就做好了準備，按照正常的使用情況來看，用個3-5年問題不大。

畢竟以前一年才采購100-200億，現在一年采購了600億了，已經做好未來幾年用量準備。

第三，則是目前中國國產浸潤式光刻機突破在即，也許不需要3-5年就突破了，那時候都不需要進口了，還擔心什么呢？

最后，再說一說，浸潤式DUV光刻機，制造7nm芯片是不成問題的，這個臺積電第一代7nm，就是浸潤式DUV光刻機制造出來的，而華為Mate60上的芯片，也驗證了這一點。

而浸潤式光刻機之父林本堅甚至表示，浸潤式光刻機，從7nm推進至5nm，也是可行的，只是需要更多次的曝光，導致成本上升而已，成本很重要，但沒有進入5nm重要嘛。

所以說，未來3-5年，我們根本就不用愁浸潤式DUV光刻機，甚至推進至5nm也不用愁，我們已經有了足夠的準備，至于3-5年之后， 也許時代早就變了，就更不需要杞人憂天了。