中商情報網訊：光學掩模版在薄膜、塑料或玻璃基體材料上制作各種功能圖形并精確定位，以便用于光致抗蝕劑涂層選擇性曝光的一種結構。掩膜版應用十分廣泛，在涉及光刻工藝的領域都需要使用掩膜版，如IC、FPD、PCB、MEMS等。

市場規模

隨著半導體產業整體需求持續擴張，全球光掩模板規模表現為穩步增長趨勢，行業整體技術壁壘深厚，產業集中度高，龍頭議價能力高，利潤水平高，數據顯示，2020年全球光掩膜版市場規模達41.88億美元，預計2023年將達51億美元。

數據來源：SEMI、中商產業研究院整理

下游應用情況

光掩模具體應用于IC、LCD、OLED和PCB等領域，其中光掩模在IC領域需求占比最高，達60%，其次為LCD（液晶顯示屏）領域，達23%。考慮到全球晶圓廠擴產大勢，對半導體光掩模的需求有望將進一步增長。此外，隨著半導體芯片工藝制程的技術節點不斷邁進，晶圓線寬不斷減小，同體積芯片所能容納基礎單元結構更多，所需要的光掩模數量也相應增加。

數據來源：中商產業研究院整理