中商情報網訊：光刻膠又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發生變化的耐蝕劑刻薄膜材料，是半導體制造中使用的核心電子材料之一。伴隨著晶圓制造規模持續提升，中國有望承接半導體光刻膠產業鏈轉移。

市場現狀

1.市場規模

目前，我國光刻膠產業鏈雛形初現，從上游原材料、中游成品制造到下游應用均在逐步完善，且隨著下游需求的逐漸擴大，光刻膠市場規模顯著增長。中商產業研究院發布的《2024-2029全球及中國光刻膠和光刻膠輔助材料行業發展現狀調研及投資前景分析報告》顯示，我國光刻膠市場規模由2017年58.7億元增至2022年98.6億元，年均復合增長率為10.9%。中商產業研究院分析師預測，預計2023年我國光刻膠市場規模可達109.2億元。

數據來源：中商產業研究院整理

2.產品結構

光刻膠可以分為面板光刻膠（LCD光刻膠）、PCB光刻膠和半導體光刻膠（芯片光刻膠），其中半導體光刻膠生產難度較高。全球光刻膠產品占比中，三種光刻膠生產結構較為均衡，相比之下，我國光刻膠行業發展起步較晚，生產能力主要集中在PCB光刻膠等中低端產品，其中PCB光刻膠占比達94%，而半導體光刻膠等高端產品仍需大量進口，自給率較低。未來隨著光刻膠企業生產能力的提高，我國光刻膠生產結構將會進一步優化。

數據來源：中商產業研究院整理

發展前景

1.政策鼓勵支持行業發展

為鼓勵光刻膠產業發展、突破產業瓶頸，我國出臺多項政策支持半導體行業發展。如《國務院關于印發新時期促進集成電路產業和軟件產業高質量發展若干政策的通知》中提出，包括生產光刻膠在內的集成電路產業關鍵原材料、零配件企業被納入享受稅收優惠政策的清單。

2.外部環境促進產業發展

日韓貿易摩擦啟示中國在中美貿易摩擦下急需半導體光刻膠自主可控，為鼓勵光刻膠產業發展、突破產業瓶頸，我國出臺了多項政策支持半導體行業發展。為應對國外技術出口管制風險，多家中國半導體企業也增加了材料國產化率要求，增加國產半導體光刻膠進入量產產線進行測試驗證的機會，加快了國產半導體光刻膠研發進度。

3.國內企業積極布局光刻膠市場

隨著國產化推進，本土企業技術水平的不斷提升，我國光刻膠產品研發不斷增加，技術專利申請量上升，多家企業積極布局光刻膠市場。國內企業如南大光電在ArF光刻膠產品領域已取得一定進展，繼續加快ArF光刻膠產業化步伐；晶瑞電材KrF光刻膠生產及測試線已經基本建成，加強在ArF高端光刻膠領域的突破；目前徐州博康研發、生產的光刻膠產品主要包括6款ArF光刻膠、13款KrF光刻膠、11款Iline光刻膠，另有60多款IC光刻膠處于研發改進階段；東陽華芯擬在浙江省東陽市投資建設全新的“年產8000噸光刻材料新建項目”，生產光刻膠及其配套試劑等。