眾所周知，目前的芯片流程中，光刻機是必不可少的設備之一，也是價值占比，工序占比最高的設備。

而目前能夠制造前道光刻機（與后道光刻機對應，前道光刻機用于制造芯片，后道光刻機用于封測）的廠商，全球也沒幾家，也就只有ASML、日本的尼康、佳能，中國的上海微電子這么四家。

目前全球最先進的光刻機是ASML的EUV光刻機，且全球僅ASML一家能夠生產，用于7nm及以下的芯片制造，一臺售價超過1.5億美元（超過10億元人民幣）。

最關鍵的是，并不是你有錢就能夠買到，比如中國一直想買EUV光刻機，但美國不準荷蘭賣給中國，導致目前中國的芯片技術，一直卡在14nm。

早在2020年，中芯國際的梁孟松就表示，7nm制程的研究工作，已經全部做好，5nm制程的最大難點，也在進行中，只等EUV光刻機的到來。

可見，中國是真正急需EUV光刻機，只要EUV一到位，只怕7nm工藝立馬就能夠突破，甚至5nm也不是不可能。

但EUV光刻機要突破，可就沒這么容易了。目前光刻機已經是芯片系統的瓶頸，芯片產業的發展，就依賴于光刻機這個瓶頸的突破。

從ASML開始研究EUV光刻機，到最終生產出原型機，中間就花了13年時間。

而從原型機到最終量產，又花了近10年時間，可以說從研究到最終量產，ASML就花了近20年時間才完成。

阿斯麥公司技術副總裁的本肖普曾說，EUV光刻機幾乎是一項奇跡般的人類成就，是人類制造過的最復雜的東西。

媒體一直報道稱，一個完整的EUV光刻機有超過10萬個復雜程度類似的組件，但事實上，一個組件本身，又可以拆分成眾多的零件。

比如鐳身器中，一共有457329個零件，如果將一臺EUV拆解成不可再分的元件的話，其零件個數，超過千萬個。

一個EUV光刻機的供應商就超過5000家，分布全球各地，其中荷蘭只提供其中的15%不到，另外的85%全部是ASML從全球各地進口來的，然后再拼裝到一起，最終拼裝成一臺EUV光刻機。

目前ASML的EUV光刻機可以制造小于3納米結構的芯片，而人類紅細胞的直徑約為7000納米。

而ASML的EUV光刻機鐳射器，可以生產比太陽表面溫度高40倍的等離子體，要實現這些技術，真的是ASML幾十年的積累，并不是有技術突破就能夠實現的。

而中國從21世紀初，就已經開始研發EUV光刻機，長春光電所、中科院、北理工、哈工大、華中科技等多個研究所和高校，均參與其中，但經過了20多年的研究，雖然小突破不斷，但可以說還只是摸到門檻而已。

所以，要研發EUV光刻機，真的不容易，否則它也不會被認為是人類制造的最復雜的機器了。當然，正如網友所說，再復雜，也是人研究出來的，所以總有一天，我們肯定會研發出來的，只是需要時間。