由于眾所周知的因素所影響，中國一直難以買到先進的光刻機，這影響著中國在芯片制造方面的發展，也讓國內高度關注芯片設備技術的發展，其實中國在芯片設備方面也并非完全落后，在某些芯片設備方面已達到世界先進水平。

日前中國芯片設備行業就傳出了重大利好消息，指中國在3納米芯片設備方面已取得重要突破，這也是中國在芯片設備方面所達到的最先進水平，幾乎已與全球同步，這項設備就是刻蝕機。

中國在刻蝕機方面其實一直都與全球保持在同一水平，數年前全球量產5納米，中國的刻蝕機也迅速達到了5納米的水平，當時上海中微公司的5納米刻蝕機甚至還得到了臺積電的認可，可見中國在刻蝕機方面的水平確實足夠先進。

刻蝕機也是芯片制造的一個重要環節，僅次于光刻機，光刻機將電路圖印制在晶圓上之后，就需要刻蝕機對這些電路進行刻蝕，然后再進行其他步驟，進而最終生產出芯片這種成品，由此可見刻蝕機的重要性。

中國在刻蝕機技術方面達到世界先進水平，在于中國早早布局，2000年初張汝京在中國大陸創立了中芯國際不久，當時諸多海外人才紛紛回來中國創業，中微公司的創始人尹志驍也在2000年后不久回國創立了中微公司。

獲益于尹志驍在美國Intel等公司從業積累的技術，再加上他的回國帶回了一批芯片人才，由此中微公司擁有了一定的技術基礎，在此后的20年時間默默耕耘，從零起步逐漸打造出了全球最先進的刻蝕機。

當然中國龐大的市場，以及剛剛興起的芯片制造也為中微公司的發展提供了沃土，時至今日中國最先進的工藝只是達到7納米工藝，如此剛剛創立的中微公司研發的刻蝕機在國內仍然有市場，還是全球最大的芯片市場，由此中微公司伴隨著中國芯片產業的發展，逐漸成為全球重要的芯片設備商。

中國在刻蝕機方面的發展，證明了中國并非不可能從零起步，打造自己的芯片制造產業鏈，更何況中國其實在之前就有一定的基礎，1990年代中國其實已有光刻機產業，只是后來國內市場的發展讓光刻機等設備產業未能抓住市場契機。

這幾年以美國為首屢屢限制對中國出口先進的芯片設備，嚴重影響了中國芯片產業的發展，而如今中國的刻蝕機達到全球先進水平，將鼓舞國內的芯片制造產業鏈努力拼搏，只要各個行業企業共同努力，中國遲早能研發成功先進的光刻機。

中國在光刻機方面其實已具有一定的基礎，浸潤式光刻機技術已在去年實現量產，也正是有鑒于國內在浸潤式光刻機技術上的突破，光刻機企業ASML才突然獲得許可對中國供應先進的浸潤式光刻機2000i，如此堅持下去，國內實現完全自主的芯片制造產業鏈必將成為現實。

華人在全球芯片行業起到了重要的作用，NVIDIA、AMD、博通等全球知名的芯片企業都由華人掌舵或創立，證明了華人在芯片技術研發方面的天賦，尹志驍博士等人在中國取得的卓越成就，將激勵更多華人回中國創業，這也將成為中國芯片技術發展的巨大潛力，或許將來有一天中國將不僅實現完全的芯片自主研發，還將主導全球芯片技術發展的方向。