近日,泛林集團(tuán)推出了Coronus DX產(chǎn)品,這是業(yè)界首個(gè)晶圓邊緣沉積解決方案,旨在更好地應(yīng)對(duì)下一代邏輯、3D NAND和先進(jìn)封裝應(yīng)用中的關(guān)鍵制造挑戰(zhàn)。隨著半導(dǎo)體芯片關(guān)鍵尺寸的不斷縮小,其制造變得越來越復(fù)雜,在硅晶圓上構(gòu)建納米級(jí)器件需要數(shù)百個(gè)工藝步驟。僅需一個(gè)工藝步驟,Coronus DX 可在晶圓邊緣的兩側(cè)沉積一層專有的保護(hù)膜,有助于防止在先進(jìn)半導(dǎo)體制造過程中經(jīng)常發(fā)生的缺陷和損壞。