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- 俄羅斯公布EUV光刻機(jī)路線圖，采用“非主流”技術(shù)路徑
- 俄羅斯發(fā)布EUV光刻機(jī)路線圖：2036年實(shí)現(xiàn)10nm以下制程芯片制造
- 臺(tái)積電重磅調(diào)整：老舊8英寸晶圓廠轉(zhuǎn)產(chǎn)EUV掩模保護(hù)膜
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- SK海力士引進(jìn)存儲(chǔ)器業(yè)界首臺(tái)量產(chǎn)型High NA EUV設(shè)備
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